集成电路布图设计的反向工程复制方式

  集成电路领域里最大的侵权特点其实就是分析受保护的集成电路里的元件连接方式即布图设计,然后应用于侵权人自己的集成电路里。在英语当中,集成电路领域的复制是用 reproduce,而不是 copy,因为集成电路里的复制其实就是分析结果的再利用,用于生产新的集成电路才有价值。所以,复制一个布图设计一般会经历下列步骤:
  
  在合法布图设计刚刚上市时,竞争对手就会派人去市场上购买含有该布图设计的集成电路产品,然后对集成电路产品进行拆卸,找到含有布图设计的集成电路晶片,然后采取化学腐蚀等溶解手段,让晶片溶解,暴露出附着于晶片上的一层层的立体布图设计,然后小心翼翼地用高分辨率的照相机对每一层的布图设计进行照相,在把所有的布图设计用照相机照下来后,把照相底片通过计算机等技术手段进一步放大,然后对每一张底片中的布图设计进行认真分析,最后绘制出与合法布图设计中的布图设计一样的完整的布图设计,这些做完之后,竞争对手就会把分析出来的布图设计用于自己的集成电路产品,以达到与合法布图设计持有人竞争的目的。
  
  复制一个布图设计,不管多么复杂和精确的布图设计,他们的工作程序仅仅是溶解晶片,然后用照相机进行高分辨率每一层布图设计进行拍照,然后对照相底片进行分析就可以了,所以他们的成本是非常低的,复制研究时间也是非常短的,自然他们的成本与合法的布图设计研究开发费用比起来也是非常低的,他们的产品上市后就可以以非常低的售价就进行销售,对合法布图设计持有人的布图设计产品无疑是一个非常致命的打击。因为复制出来的集成电路布图设计电路功能与合法集成电路布图设计是没有区别的,所以高价的合法集成电路产品与非法复制的集成电路产品相比毫无竞争力,合法布图设计持有人将无法收回他们研究开发集成电路布图设计的成本。复制侵权对权利人的积极性打击由此可见。