专题:实质性相似

反不正当竞争

著作权侵权|北京小明文化发展有限责任公司与统一企业(中国)投资有限公司等侵害著作权及不正当竞争纠纷案

hfiplaw 发布于 2019-03-05 阅读(8)

裁判要旨:1、如果认为一审法庭辩论结束后一概不允许增加诉讼请求,可能会产生因一审审理时法官未尽到释明义务导致的诉讼请求遗漏或者因客观情况导致当事人不可能在一审法庭辩论结束前提出的情形,而应该增加的诉讼请求受到一事不再理原则的制约,不可能通过另案解决。在这样的情形下,应当允许在二审期间增加诉讼请求。当...

其他

集成电路布图设计专有权侵权案件常见问题剖析

hfiplaw 发布于 2018-04-08 阅读(518)

作者 | 陈军 安徽天禾律师事务所律师 集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。集成电路布图设计(下称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元...

著作权

美术作品著作权案:“实质性相似加接触”是判定作品侵权的核心标准

hfiplaw 发布于 2016-01-03 阅读(980)

  来源:成都中院   作者:李佳梅 杜梅   【要点】   法院在审查是否成立著作权侵权行为时,《作品登记证》仅具有初步证明效力,“实质性相似加接触”才是核心标准。只有证明涉嫌侵权作品与受著作权保护的作品构成实质相似,同时作品权利人又有证据表明被告在此前具备了接触原作品的机会或者已实际接触了原作品...